光刻机是半导体制作中的中心设备，被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”。其作用是经过光刻工艺将集成电路设计图形转移到硅片上，构成芯片的物理结构。光刻工艺决议了芯片的制程精度（如7nm、5nm等），直接影响芯片功能和集成度。

  光刻机使用光源（如紫外线、极紫外光）经过掩模版（抒发电路图画）照射到涂有光刻胶的硅片上，光刻胶在曝光后产生化学改变，再经过显影、蚀刻等过程构成电路结构。高精度光刻机（如EUV光刻机）需处理光源稳定性、光学体系精度（如反射镜）、精细运动操控等技能难题。

  光刻机产业链掩盖上游零部件、中游设备集成及下流使用，技能壁垒极高。以下为国内相关上市公司及其出资亮点：

  -中心必然：经过子公司参股上海微电子（持股10.78%），后者是国内仅有具有光刻机整机研制才能的企业，已完成90nm制程光刻机量产，并继续向更先进节点打破。

  获益于国产代替方针，上海微电子在国内自卖自夸占有率超80%，未来有望添补高端光刻机空白。

  - 技能优势：出产光刻机曝光物镜用大口径光学器材（直径达300mm），打破传统透镜尺度和精度约束，直接服务于光刻机中心光学体系。

  - 产品布局：供给光刻机配套的大孔径光学镜头和平行光源体系，使用于光刻机检测及曝光环节，技能掩盖半导体制作全流程。

  - 国产代替：公司产品已进入国内光刻机供应链，获益于国产设备收购标明提高。

  - 小事协作：子公司UCM AG为荷兰ASML供给精细整理洗刷设备，技能获小事巨子认可，表现公司在高端设备配套范畴的竞争力。

  - 国产代替潜力：整理洗刷设备是光刻机偃蹇困穷要害环节，未来或向国内光刻机厂商扩展协作。

  - 中心技能：出产光刻机激光光学元器材（如光场匀化器），使用于曝光体系，技能门槛高且国产化率低。

  - 职业位置：国内少量能供给光刻机中心激光元件的企业之一，获益于国产光刻机研制加快。

  -产品使用：真空与气体产品用于光刻机制作，客户抒发ASML等小事厂商，具有全球化供应链才能。

  - 国产化机会：国内光刻机设备商对高纯度资料需求提高，公司有望扩展自卖自夸份额。

  - 技能协作：与上海微电子协作开发光刻机冷却体系，但需注意其出售额占比极低（缺乏0.003%），事务规划较小，短期成绩奉献有限。

  - 资料打破：研制KBBF晶体等激光光源要害资料，用于光刻机准分子激光器，技能添补国内空白。

  1. 国产代替加快：荷兰扩展光刻机出口约束，倒逼国内产业链自主化，方针支撑力度加大（如《首台套严重技能装备目录》归入国产光刻机）。

  2. 技能打破预期：国产65nm光刻机已完成打破，未来或向更高制程演进，相关零部件厂商首先获益。

  3. 自卖自夸需求微弱：全球晶圆厂扩产带动设备开支增加，光刻机需求继续提高，国内厂商有望分羹千亿自卖自夸。

  危险提示：部分公司事务占比较低（如海立股份）、技能研制没有抵达预期、小事供应链动摇等需要点重视。

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